Màng thụ động trên lớp phủ cấu trúc nano Ni và Ni-Cu trong dung dịch borat

Please use this identifier to cite or link to this item: http://lrc.quangbinhuni.edu.vn:8181/dspace/handle/DHQB_123456789/7474

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Đỗ Quang Quận	-
dc.contributor.author	Cù Huy Chính	-
dc.date.accessioned	2023-06-13T08:02:24Z	-
dc.date.available	2023-06-13T08:02:24Z	-
dc.date.issued	2022	-
dc.identifier.uri	http://lrc.quangbinhuni.edu.vn:8181/dspace/handle/DHQB_123456789/7474	-
dc.description.abstract	Màng thụ động hình thành trên lớp phủ cấu trúc nano Ni và Ni-Cu trong dung dịch borat đã được khảo sát. Mật độ khuếch tán khuyết điểm (D0) ở màng thụ động hình thành trên lớp phủ Ni được xác định bằng 2,17×10−17cm2 /s và Ni-Cu là 1,76×10−17cm2 /s. Chiều dày màng thụ động và mật độ khuếch tán khuyết điểm hình thành trên lớp phủ Ni-Cu thấp hơn trên lớp phủ Ni; điều đó chỉ ra rằng, lớp phủ Ni-Cu có khả năng chống ăn mòn tốt hơn lớp phủ Ni trong dung dịch borat.	vi
dc.subject	Hóa học	vi
dc.subject	Màng thụ động	vi
dc.subject	Cấu trúc nano	vi
dc.subject	Dung dịch borat	vi
dc.title	Màng thụ động trên lớp phủ cấu trúc nano Ni và Ni-Cu trong dung dịch borat	vi
dc.type	Other	vi
Appears in Collections:	TL THAM KHẢO HÓA HỌC

Files in This Item:

File	Description	Size	Format
tap_chi_khcn_so_62_04_2020_2262_trang_26_30_6023.pdf		1.15 MB	Adobe PDF	View/Open